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曝光機工作原理

時(shí)間: 2018-05-12 16:56:00   點(diǎn)擊:
  曝光機是20世紀60年初掃描電子顯微鏡基礎發(fā)展而來(lái)的一種新光刻技術(shù),在70年代后廣泛應用于半導體電路板生產(chǎn)制造。曝光機即電子串曝光機,是集電子光學(xué)、機械、真空、電氣、計算機技術(shù)等于一體的復雜的半導體加工設備。
 
  曝光機基本工作原理:
 
  在計算機的控制下,利用聚焦電子束對有機聚合物(通常稱(chēng)為電子抗蝕劑或光刻膠)進(jìn)行曝光,受電子束輻照后的光刻膠,其物理化學(xué)性質(zhì)發(fā)生變化,在一定的溶劑中形成良溶或非良溶區域,從而在抗蝕劑上形成精細圖形。根據電路板的線(xiàn)路的粗細來(lái)決定上下光源的曝光能量,能量不足電路板無(wú)法曝光,要是能量過(guò)高電路板就會(huì )過(guò)曝,所以在曝光電路板時(shí),必須先測試電路板所需的能量,從而進(jìn)行電路板的曝光生產(chǎn)。
 
  LED曝光機的優(yōu)點(diǎn):
 
  1、均勻度90%以上;
 
  2、線(xiàn)路板解析度可達到50μm。
 
  3、節能80%,四年內無(wú)需更換燈管,無(wú)冷卻水消耗;
 
  4、緊密的光學(xué)組合,使光源投射的平行半角小于2°;
 
  5、曝光面積為:1000mm×750mm/1300mm×750mm/1500mm×750mm;
 
  6、真空蓋板自動(dòng)升起,避免員工繁重的體力勞動(dòng);
 
  7、LED逐點(diǎn)校正系統實(shí)時(shí),實(shí)時(shí)監控每個(gè)發(fā)光單元的強度狀態(tài);
 
  8、超高能量,能有效取代8KW/10KW12KW傳統汞燈阻焊曝光機,曝光時(shí)間為20秒;

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